Описание

Очищающая маска. Способствует сокращению пор, уменьшению жирного блеска, раздражения и зуда. Тонизирует, освежает, охлаждает.

Активные ингредиенты:
сера, оксид цинка, камфора.

Применение:
Нанести маску равномерным тонким слоем на предварительно очищенную кожу. Через 15 мин. смыть водой. Использовать 1 раз в неделю или как рекомендовано специалистом.

Ingredients:
Water (Aqua), Kaolin, Propylene Glycol, Zinc Oxide, Sulfur, Alcohol SD-40 (Denat.), Cetyl Alcohol, Camphor,Hydroxypropyl Methylcellulose, Cetearyl Alcohol, Polysorbate 20, Quartz, Methylparaben, Sodium Lauryl Sulfate, Paraffin Oil, 2-Bromo-2-Nitropropan-1,3-Diol.

6M

Изготовитель:
Pharma Cosmetics Ltd.
4 Nirim Str. 6706041 Tel-Aviv, Israel
www.hl-labs.com